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CRF plasma 等離子清洗機

支持材料 測試、提供設(shè)備 試機

20年專注等離子清洗機研發(fā)生產(chǎn)廠家

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真空等離子處理機

CRF-VPO-8L-S

超大處理空間,提升處理產(chǎn)能,采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),精準(zhǔn)的控制設(shè)備運行;

可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶的需求;保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;

高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。

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設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)

       等離子清洗機還可依據(jù)特定的情況更改一些材料的表層特性。等離子設(shè)備在清洗過程中的輝光放電能提高這些材料的黏附性、相溶性和潤滑性。清洗機電源選用RF射頻電源,穩(wěn)定可靠的功放模塊和DC模塊,確保了電源的RF輸出功率輸出,采用高品質(zhì)的電子元器件,確保了產(chǎn)品可靠性。

深圳誠峰智造等離子清洗機

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  • 先進(jìn)的設(shè)備

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  • 嚴(yán)格的質(zhì)量控制

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