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CRF plasma 等離子清洗機

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plasma等離子處理系統

CRF-APO-N&AP-XY

配置專業移動品臺,一鍵式控制啟動,操作簡單;

可配置特制平臺,滿足客戶多元化需求;

可選配增加低溫處理系統,處理溫度可達45攝氏度以下。

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設備詳細數據
名稱 自動X/Y軸式AP等離子處理系統
型號 CRF-APO-N&AP-XY
外接電源 220V/AC,50/60Hz
等離子功率 600W/25KHz
有效處理高度 3-20mm
處理速度 0-300mm/s
Y軸數量 1set-4set/Y(Option)
工作氣體 Compressed Air(0.4mpa)
選配件 制氮系統/CDA
氮氣純度 ≥99.99%(Option)

應用范圍

主要應用于電子行業的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理,手機屏幕的表面處理;國防工業的航空航天電連接器表面清洗;通用行業的絲網印刷、轉移前處理等。


真空等離子清洗機

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  • 服務行業領域廣泛

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