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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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大氣常壓等離子清洗機(jī)

CRF-APO-R&D-XXXHD

采用PFC全橋數(shù)字式等離子電源,輸出功率穩(wěn)定,抗干擾能力強(qiáng),反應(yīng)迅速;

可選配多種類(lèi)型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場(chǎng)合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;

設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動(dòng),節(jié)省客戶(hù)使用空間;

可ln-Line式安裝于客戶(hù)設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶(hù)投入成本;

使用壽命長(zhǎng),保養(yǎng)維修成本低,便于客戶(hù)成本控制;

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名稱(chēng) 自動(dòng)On-LineAP等離子處理系統(tǒng)
等離子電源型號(hào)型號(hào) CRF-APO-R&D-XXXHD
旋轉(zhuǎn)式等離子噴槍型號(hào) 旋噴式:RXX(Option:20mm-80mm)
電源 220V/AC,50/60Hz
功率 600-1000W20KHz(Option)
功率因素 0.98
處理高度
5-15mm
處理寬幅 旋噴式:20-80mm(Option)
內(nèi)部控制模式
數(shù)字控制
外部控制模式
RS485/RS232、迷你通訊口、啟停I/O
工作氣體
Compressed AIR (0.4mpa)/N2(0.2mpa)
電源重量
10kg

應(yīng)用范

      等離子表面處理儀主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

      等離子清洗設(shè)備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對(duì)材料表層改性等。經(jīng)等離子處理后,能提升材料表層的濕潤(rùn)性,使多種多樣材料都能開(kāi)展涂覆、表層的鍍膜等實(shí)際操作,提高粘結(jié)力和鍵合能力,另外還可以除去有機(jī)化學(xué)污染物、油污和油脂。用等離子體對(duì)材料開(kāi)展表層改性,接枝層會(huì)與表層分子結(jié)構(gòu)中間產(chǎn)生化學(xué)鍵,使其具備優(yōu)良的使用性能。

      等離子清洗設(shè)備采用高精密的數(shù)控加工技術(shù),具備高精密的全自動(dòng)清洗機(jī)械裝置,時(shí)間控制度高;等離子體的恰當(dāng)清理不會(huì)對(duì)其表層造成損害,產(chǎn)品的工藝性能獲得確保;它是一種綠色環(huán)保的清洗加工工藝,不會(huì)造成環(huán)境污染,防止了人為失誤的危害,清理表層不會(huì)受到二次污染。等離子清洗機(jī)具備線上生產(chǎn)量,并可完成自動(dòng)式清理。等離子體清洗不會(huì)受到幾何圖形樣子的限定,能夠?qū)π×慵⑺苣z板材、無(wú)防布、紡織產(chǎn)品、橡膠軟管、內(nèi)腔pcb線路板等開(kāi)展表面處理。零件不會(huì)產(chǎn)生機(jī)械形變,是一種高質(zhì)量加工工藝;且考慮凈化車(chē)間等嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn),方便使用靈活實(shí)際操作簡(jiǎn)易,對(duì)各種形狀的零件處理成效顯著,加工工藝可控,低成本,效果非常的好,而且時(shí)間較短。生產(chǎn)加工過(guò)的產(chǎn)品外型不會(huì)遭受等離子體處理的高低溫影響,零件非常少遇熱。等離子清洗機(jī)具備運(yùn)作花費(fèi)低、加工工藝安全、實(shí)際操作安全性高等優(yōu)勢(shì),也是一種處理后成效顯著的清洗生產(chǎn)流程。

如何理解等離子清洗設(shè)備中的這兩種化學(xué)反應(yīng)?實(shí)際應(yīng)用是什么?

       等離子清洗設(shè)備中的化學(xué)反應(yīng),您真的知道是什么嗎
       用等離子清洗設(shè)備對(duì)固體材料進(jìn)行表面處理時(shí),一般都會(huì)涉及到物理和化學(xué)反應(yīng),而化學(xué)反應(yīng)主要有2種類(lèi)型,那么對(duì)于2種化學(xué)反應(yīng)又該如何理解呢?還將有哪些具體的實(shí)際應(yīng)用?
       考慮到化學(xué)反應(yīng)方程的解釋更加方便和直觀,接下來(lái)也將通過(guò)等離子清洗設(shè)備表面處理過(guò)程的反應(yīng)方程為大家講解。在下列反應(yīng)式中,大寫(xiě)字母A、B、C、D、M分別表示不同的物質(zhì);小寫(xiě)字母s、g分別表示物質(zhì)的固體形態(tài)和氣體形態(tài)。

化學(xué)式為A(g)+B(g)→C(s)+D(g)的等離子體表面處理工藝:
       類(lèi)型的等離子清洗設(shè)備的化學(xué)反應(yīng),通常包含兩種以上的反應(yīng)性氣體,產(chǎn)生的等離子體能與固體材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng),這種特殊工藝應(yīng)用包括等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)、等離子濺射和等離子體聚合。
       等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法PECVD通常是將兩種或兩種以上工藝氣體在等離子體狀態(tài)下反應(yīng),生成新的固體物質(zhì),并在材料基底上形成一層薄膜物質(zhì),這種工藝目前已廣泛應(yīng)用于光學(xué)膜制備等領(lǐng)域。
       等離子體濺射也是利用兩種或更多的氣體電離成等離子體進(jìn)行的反應(yīng),不同的是,其中一種反應(yīng)物是首先利用荷能粒子從靶材上濺射下來(lái),然后通過(guò)反應(yīng)生成薄膜,這屬于濺射制膜范疇。
       至于等離子清洗設(shè)備等離子體聚合過(guò)程,實(shí)際上就是等離子體發(fā)生的反應(yīng)物是有機(jī)單體。

化學(xué)反應(yīng)式為A(g)+B(g)+M(s)→AB(g)+M的等離子表面處理工藝:
       這種反應(yīng)過(guò)程代表了固體材料M的表面主要起催化作用,并能促進(jìn)氣體分子的離解和復(fù)合等作用。在這類(lèi)等離子清洗設(shè)備等離子體反應(yīng)中,常被用于特殊氣體制備領(lǐng)域。

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