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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
與以往有機溶劑濕法清洗工序相較，誠峰智造干式等離子體清洗的優點是什么？
等離子體是氣體分子在真空、放電和其它獨特場合所產生的物質。等離子體清洗、蝕刻等離子體裝置是在密封容器中設置2個電極產生電磁場，用真空泵實現相應的真空度，伴隨著氣體越來越薄，分子問距和分子或離子白由運動距離越來越長，受磁場作用，碰撞產生等離子體，同時發光。等離子體在電磁場中移動，并轟擊被處理物體的表面，以達到表面處理、清潔和蝕刻的效果。
等離子體清洗具有以下優點：
1.等離子體清洗后清洗對象干燥，無需干燥即可送至下道工序。可提高整個工序流水線的處理效率；
2.無線電波范圍內高頻所產生的等離子體不同于激光等直射光。等離子體的方向性不強，可以深入物體的微孔和凹陷內部完成清洗任務，不需要過多考慮被清洗物體的形狀。
3.干式等離子體清洗的真空度約為100Pa，這種清潔條件很容易實現。因此，該裝置的設備成本不高，清洗過程不需要使用昂貴的有機溶劑，使整體成本低于傳統的濕清洗工序；
4.干式等離子體清洗使用戶能夠遠離有害溶劑對人體的危害，避免濕式清洗中容易清洗物體的問題。
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