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CRF plasma 等離子清洗機

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誠峰智造CRF常壓等離子機噴涂法控制涂層技術(shù)難點

誠峰智造CRF常壓等離子機噴涂法控制涂層技術(shù)難點:
       CRF常壓等離子噴涂工藝將粉粒載氣送入高溫、高速等離子體焰流,加熱加速、制冷、制冷,在熔化或半熔化狀態(tài)下,快速展開、制冷固化,最終產(chǎn)生平面單層,與襯底接觸。在宏觀尺度上,大量單層不斷堆積最終產(chǎn)生薄膜。大氣層等離子噴涂涂層的特征單元,單片層的形態(tài)特征和單片層間的疊加行為決定了涂層的微觀結(jié)構(gòu)。單層是熱噴涂制備涂層的結(jié)構(gòu)單元,其特點與涂層的宏觀性能密切相關(guān)。

常壓等離子機


       大氣壓CRF常壓等離子噴涂技術(shù)可控鍍層技術(shù)的難點在于工藝中有很多因素需要控制,而且經(jīng)常互相影響。熔點高、速度快、物理化學(xué)狀態(tài)廣泛分布的特點,對實時觀測和過程控制都是一個挑戰(zhàn)。在CRF常壓等離子噴涂工藝中,單片層的產(chǎn)生主要受控于熔滴制冷能力。熔滴快速制冷時,液體化學(xué)物質(zhì)流通性快速減少,趨向于產(chǎn)生盤狀單片層;相反,濺射趨勢較強。
       與涂層性能密切相關(guān)的是由于單片層外形變化所引起的:盤狀單片層與基片的結(jié)合強度較高,而濺射狀單片層與基片的結(jié)合強度相對較低。利用現(xiàn)場測溫、測速,尤其是能夠跟蹤熔滴內(nèi)溫度和速度的測量,無疑是研究工藝參數(shù)對單片層特性影響的有效手段。另外,單片層狀結(jié)構(gòu)特征的數(shù)據(jù)化及其與涂層整體性能之間建立(半)定量關(guān)系也是今后研究的重要方向。


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