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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
O2和N2通入CRF誠峰電漿清洗機的哪種應用效果好：
同樣條件下，O2電漿清洗機處理比N2處理效果更好。另外需要蝕刻，以和清除污垢，浮渣，表面處理，等離子聚合，電漿灰化或任何其它蝕刻應用，如果客戶是非標產品需要定制，我司也可以按需設計和做出符合客戶要求的設備。我公司兼具傳統的電漿清洗機系統和反應型離子型蝕刻系統，可以生產系列產品，也可以為客戶定制專用系統。我們可以提供快速/高質量蝕刻，提供所需的均勻度。
隨著處理時間的拉長，時間的拉長而減小，卻在相應期限內，表面張力幾乎沒有變化。等離子體處理可用于各種基底，復雜的幾何構形也可進行等離子體活化，電漿清洗和鍍膜等。低壓等離子體還可以處理熱負荷和機械負荷低的敏感材料。
上述結果說明，利用電漿清洗機處理PTFE粘性較好，需要不斷地調整各處理參數以獲得良好的處理工藝，CRF誠峰電漿清洗機操作簡單，可設定多個實驗參數，同時也可儲存多種工藝參數，這對探尋工藝參數很有幫助。
crf電漿清洗機技術的典型應用是:半導體/集成電路；氮化鎵；氮化鋁/氮化鎵；砷化鎵/砷化鋁鎵；砷化鎵；磷化銦、鎵/銦鎵化物(Inpingas/Inalas)；硅；硅鍺；硅化硅陶瓷(Si3N4)；硅溴化氫；硒化鋅(Znse)；鋁；鉻；鉑；鉬；
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