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CRF plasma 等離子清洗機

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FPC真空等離子設(shè)備清洗后產(chǎn)品的及時性

FPC真空等離子設(shè)備清洗后產(chǎn)品的及時性:
       FPC真空等離子設(shè)備有常壓和真空等離子清洗設(shè)備。等離子清洗機的價格差異。常壓由配套裝配線的槍頭、旋轉(zhuǎn)、直噴槍頭等參數(shù)決定,真空等離子清洗機以腔體為基礎(chǔ)。
       真空等離子設(shè)備采用氣體做為清潔物質(zhì)。工作的時候,清潔腔內(nèi)的等離子體輕輕沖洗被清潔物體的表面。短期內(nèi)清洗可完全清洗有機污染物,污染物被真空泵抽走,清洗水平達到分子級。以便校驗等離子清洗機的作用,能通過SITACI表面清潔度系統(tǒng)測量RFU值,以RFU值(RelativeFluorescenceUnits)表示清潔度。RFU相對熒光強度值,RFU零部件表面的殘余污染物含量越大。

真空等離子設(shè)備

       因為真空等離子設(shè)備的處理表現(xiàn)在化學(xué)變化和物理變化上。當(dāng)物理變化時,材料表面的改性會變得粗糙,蝕刻后表面的突起會增加,表面積也會增加。如果暴露在受污染的空氣中,與灰塵、油和雜質(zhì)混合,表面會逐漸減少。當(dāng)化學(xué)變化發(fā)生時,真空等離子設(shè)備會引入含氧極性基團,如羥基和羧基。這些活性分子具有及時性,容易與其他物質(zhì)發(fā)生化學(xué)變化,處理后表面能保留的時間不容易確定。差異的氣體、功率、處理時間和放置環(huán)境會影響材料表面的及時性。FPC產(chǎn)品清洗后驗證的及時性為:1周(用接觸角測量數(shù)據(jù)確認,接觸角值越小,達因值越大)

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