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20年專注等離子清洗機研發生產廠家
低溫等離子清洗是一種干式工藝，由于采用電能催化反應，可以提供一個低溫環境，同時排除了濕式化學清洗所產生的危險和廢液、穩定、可靠、環保。簡而言之，低溫等離子清洗技術結合了等離子體物理、等離子體化學和氣固兩相界面反應，可以去除殘留在材料表面的有（機）污染物，并保證材料的表面及本體特性不受影響，目前被考慮為傳統濕法清洗的主要替代技術。
低溫等離子清洗技術不分處理對象的基材類型，對半導體、金屬和大多數高分子材料均有很好的處理效果，并且能夠實現整體、局部以及復雜結構的清洗。此工藝容易實現自動化與數字化流程，可裝配高精度的控制裝置，控制時間等功能。正是由于等離子體清洗工藝擁有使用簡單、精密可控等顯著優勢，目前已在電子電氣、材料表面改性與活化等多個行業普遍應用。同時，這種優越的技術也將被復合材料領域所認可并廣泛采用。
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