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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

芯片引線框架優(yōu)化引線等使用等離子表面處理都有哪些顯著的特性呢

等離子噴涂設(shè)備是一種材料表面的強(qiáng)化和表面改性的技術(shù),這種技術(shù)目前應(yīng)用于很多的行業(yè),可以使材料的表面更加的耐磨,抗高溫,耐腐蝕等作用。它的工作原理的形成是使用直流驅(qū)動(dòng)的等離子弧為熱源,將金屬等材料加熱熔解或半熔解的狀態(tài),以高速的噴向物件的表面,形成牢固的表面層。那么我們工業(yè)應(yīng)用中的等離子設(shè)備它的工作原理是怎樣形成的呢?等離子設(shè)備是由等離子發(fā)生器和氣體的輸送管道還有等離子噴頭組合而成的。它的工作原理是:等離子發(fā)生器產(chǎn)生的高壓能量在噴嘴的鋼管里面被激(活)和被控制后產(chǎn)生了等離子體,通過等離子處理后的物體表面會(huì)有物理和化學(xué)等多種變化,同時(shí)還可以清潔其表面的灰塵,雜質(zhì),以及其他的有(機(jī))物等等。達(dá)到表面改性,表面活(化),改善性能等作用。在噴涂,電子行業(yè)有著卓(越)的成績(jī)。

等離子表面處理

等離子設(shè)備領(lǐng)域的有關(guān)的行業(yè)人士都知道,等離子設(shè)備廣泛的被應(yīng)用在像半導(dǎo)體,生物,醫(yī)療,還有光學(xué),平板顯示,等工業(yè)上面,它是利用一些活性的組分來處理樣品的表層,達(dá)到清潔,清洗,改性等作用。真空等離子設(shè)備應(yīng)用在半導(dǎo)體行業(yè)已經(jīng)有一定的基礎(chǔ)了,是因?yàn)樵谥瞥踢^程中在灌裝的時(shí)候出現(xiàn)了一些像氧化,潮濕等一系列的問題,所以LED行業(yè)人士想到了利用真空等離子設(shè)備清洗達(dá)到良好的密封性,減少電流的泄露,提供良好的邦定性能等作用。另外在利用真空等離子設(shè)備處理過后的電子產(chǎn)品還可以達(dá)到提高表面能,心跡其親水性,改善附著力等作用。半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用真空等離子設(shè)備技術(shù)已經(jīng)被很多工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)廠家所熟知,相信在電子行業(yè)也將會(huì)大受歡迎和推崇,這就是真空等離子設(shè)備的運(yùn)用,目前國內(nèi)已經(jīng)有很多半導(dǎo)體廠家在使用這項(xiàng)技術(shù)來處理材料,例如:芯片粘接前處理

芯片或者硅片與封裝基板的粘接,往往是兩種不同性質(zhì)的材料,材料表面通常呈現(xiàn)為疏水性和隋性特征,其表面粘接性能較差,粘接過程中界面容易產(chǎn) 生空隙,給密封封裝后的芯片或硅片帶來很大的隱患,硅片清洗機(jī)工業(yè)等離子清洗機(jī)可以對(duì)芯片與封裝基板的表面進(jìn)行等離子體處理能有效增加其表面活性,等離子處理機(jī)極大的改善粘接環(huán)氧樹脂在其表面的流動(dòng)性,提高芯片和封裝基板的粘結(jié)浸潤性,減少芯片與基板的分層,改善熱傳導(dǎo)能力,提高IC封裝的可靠性穩(wěn)定性,增加產(chǎn)品的壽命。

引線框架的表面處理

微電子封裝領(lǐng)域采用引線框架的塑封形式,仍占到80%,其主要采用導(dǎo)熱性、導(dǎo)電性、加工性能良好的銅合金材料作為引線框架銅的氧化物與其它一些有(機(jī))污染物會(huì)造成密封模塑與銅引線框架的分層,造成封裝后密封性能變差與慢性滲氣現(xiàn)象,同時(shí)也會(huì)影響芯片的粘接和引線鍵合質(zhì)量 ,確保引線框架的潔凈是保證封裝可靠性與良率的關(guān)鍵,經(jīng)等工業(yè)離子處理機(jī)清洗后引線框架表面凈化和活(化)的效(果)成品良率比傳統(tǒng)的濕法清洗會(huì)極大的提高,并且免除了廢水排放,降(低)化學(xué)藥水采購成本。

優(yōu)化引線鍵合(打線)

集成電路引線鍵臺(tái)的質(zhì)量對(duì)微電子器件的可靠陛有決定性影響,鍵合區(qū)必須無污染物并具有良好的鍵合特性。污染物的存在,如氯化物、有(機(jī))殘?jiān)榷紩?huì)嚴(yán)重削弱引線鍵臺(tái)的拉力值。傳統(tǒng)的工業(yè)清洗機(jī)濕法清洗對(duì)鍵合區(qū)的污染物去除不徹底或者不能去除,而采用等離子體廠家設(shè)備清洗能有效去除鍵合區(qū)的表面沾污并使其表面活(化),能明(顯)提高引線的鍵合拉力,極大的提高封裝器件的可靠性。
等離子體清洗的機(jī)理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活(化)作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。

等離子體清洗技術(shù)的特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚致聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。相信在今后品質(zhì)要求越來越高的情況下,等離子設(shè)備技術(shù)會(huì)越來越受行業(yè)人士的青睞和信賴。

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