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經等離子刻蝕機處理后，鈦表層引入氨基并刻蝕，形成清潔表層:
鑒于鈦片規格一定，接入鈦片表層的基團數量比較有限，表明檢測到的氮總量基本維持恒定，因此當氨基數量較多時，很難檢測到氮化鈦。氨和氮在等離子腔中電離。拋光鈦片表層沒有氧化膜，但氧化鈦膜很快就會在空氣中形成。
射頻等離子體蝕刻機等離子體腔內的氮和氫等離子體(如-NH2.-NH.N等)會躍遷鈦表層，使鈦氧鍵斷裂，與此同時形成的氫等離子體會還原表層的氧化鈦，表層一部分純鈦會暴露在等離子體氛圍中，高能氮和氫的等離子體會與鈦再次引線鍵合，形成Ti-NH2.TiN或TiN.N-O等新鍵。
純鈦經N2和NH3混合氣體等離子體處理后，表面張力維持在20°左右，表面張力減少50°左右，親水性大大提高。這是因為鈦表層經等離子蝕刻機處理后引入氨基并蝕刻，形成清潔表層。將處理后的鈦片放入空氣中，隨著儲存時間的增加，其表層親水性減少，根本原因是等離子體處理后表面能高，容易吸附空氣中的雜質。因此，清洗后親水性再次測試，表層親水性大大提高，這是因為表層氨基吸附的一些弱束縛雜質被洗掉。
射頻等離子刻蝕機將改性鈦片儲存在稀有氣體中，不僅可以防止鈦片吸收空氣中的雜質，還可以減緩等離子刻蝕造成的清潔表層損壞。密封條件好。不滲透空氣和改性表層不接觸其他物質可以長期保持表層親水性，為改性樣品轉移到應用中提供參考儲存方法。
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