筆者走訪大多設(shè)備廠商，發(fā)現(xiàn)O2等離子體表層處理設(shè)備是較為常見的一種，這種機(jī)器基本上由真空箱、真空泵、高頻電源、電極、氣體輸入系統(tǒng)、工件輸送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。真空泵中比較常見的有旋轉(zhuǎn)油泵，高頻電源大多采用13.56兆赫茲電磁波。
        等離子體表面處理裝置是利用等離子體內(nèi)各種高能物質(zhì)的(活)化作用，對(duì)粘附在物品表層的臟污開始(全)面的分離和清理。這種危害離子體表面處理設(shè)備去除工件表面的油污是顯而易見的。等離子體對(duì)油漬的作用，與使油漬形態(tài)燃燒反應(yīng)相似；但區(qū)別在于它在低溫條件下形態(tài)的燃燒。

        其基本原理:在O2等離子體中的氧原子官能團(tuán)、激發(fā)性氧分子、電子和紫外線的共同作用下，油分子被氧化成水和二氧化碳分子，從物品表層清理。從上面能夠看出，用等離子體表層處理設(shè)備清理油漬的過程能夠理解為有(機(jī))大分子逐漸降解的過程，形成H2O和CO2等小分子，以氣體的形式清理。氧等離子體的形成過程可以用以下六種反應(yīng)來表示:
1)O2-O2+e(1)
2)O2-2O(2)
3)O2+e-O2+e(3)
4)O2+e-O2+hv+e(4)
5)O2+e-2O+e(5)
6)O2+e-O+O+2e(6)
       首先是氧氣分子在獲得外部能量后變成氧氣陽離子，然后釋放自由電子的過程。其次是氧氣分子在獲得外部能量后分解形成兩個(gè)氧原子官能團(tuán)的過程。然后是氧氣分子在高能量的激發(fā)態(tài)自由電子作用下轉(zhuǎn)變?yōu)榧ぐl(fā)態(tài)；接著激發(fā)態(tài)氧氣分子進(jìn)一步發(fā)生變化，繼續(xù)是氧氣分子在高能量的激發(fā)態(tài)自由電子作用下發(fā)出光能(紫外線)。激發(fā)態(tài)氧分子分解為兩個(gè)氧原子官能團(tuán)，激發(fā)態(tài)的氧氣分子在被激發(fā)態(tài)自由電子的作用下釋放出光能(紫外線)。五是激發(fā)態(tài)氧氣分子切割成兩個(gè)氧原子官能團(tuán)，即激發(fā)態(tài)氧氣分子官能團(tuán)，在激發(fā)態(tài)氧氣分子官能團(tuán)的作用下發(fā)出光能(紫外線)。六是激發(fā)態(tài)氧氣分子切割成兩個(gè)氧原子官能團(tuán)的形成兩個(gè)氧原子官能團(tuán)。其他氣體的等離子體的形成過程也可以用類似的反應(yīng)式來描述。當(dāng)然，實(shí)際反應(yīng)比這種反應(yīng)式描述更復(fù)雜。
       等離子體表層處理設(shè)備中的等離子體作為物質(zhì)形態(tài)的第4種物態(tài)，用于表面處理，具有簡(jiǎn)單、高(效)、環(huán)保等特點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于各種村料。表層臟污，特別是機(jī)械和濕式化學(xué)清洗后仍形態(tài)的殘留物大多數(shù)是有機(jī)物。許多溶劑不能(全)面清理的油脂、脫模劑、硅酮。表層殘留這種物質(zhì)會(huì)妨礙所有后續(xù)的處理步驟，特別是危害粘接和涂層。這種物質(zhì)大多能夠通過氧等離子體，也可以通過空氣等離子體(全)面清理。利用低溫氧氣等離子體處理不僅可以提高表面親水性，而且還可以提高表面層的導(dǎo)電性和粘結(jié)性能。因此，選擇合適的等離子表層處理設(shè)備處理方法能夠有效促進(jìn)村料的表層性能，方便人們的生產(chǎn)生活。