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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

CRF等離子清洗機(jī)發(fā)出臭味是什么原因

       等離子清洗機(jī)也叫等離子清潔機(jī),或者等離子外表處理儀,是一種全新的高科技技術(shù),運(yùn)用等離子體來(lái)到達(dá)慣例清洗方法無(wú)法到達(dá)的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀況,也叫做物質(zhì)的第四態(tài),并不歸于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加滿足的能量使之離化便成為等離子狀況。等離子體的“活性”組分包含:離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗機(jī)便是通過(guò)運(yùn)用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品外表,然后完成清潔、涂覆等意圖。
等離子體發(fā)生的條件:
       滿足的反響氣體和反響氣壓,反響產(chǎn)品須能高速撞擊清洗物的外表,具有滿足的能量供應(yīng),反響后所發(fā)生的物質(zhì)必須是可揮發(fā)性的纖細(xì)結(jié)合物,以便于真空泵將其抽走,泵的容量和速度須滿足大,以便敏捷排出反響的副產(chǎn)品,并且需求快速地再填充反響所需的氣體。
等離子清洗機(jī)為什么會(huì)發(fā)生臭味?
答案是:臭氧在作祟。

等離子清洗機(jī)

        等離子體放電過(guò)程中發(fā)生臭氧的基本原理是含氧氣體在放電反響器內(nèi)所形成的低溫等離子體氛圍中,一定能量的自由電子將氧分子分化成氧原子,之后通過(guò)三體碰撞反響形成臭氧分子,一起也發(fā)生著臭氧的分化反響。臭氧,化學(xué)分子式為03,又稱三原子氧、超氧,因其相似魚腥味的臭味而得名,在常溫下可以自行還原為氧氣。比重比氧大,易溶于水,易分化。由于臭氧是由氧分子帶著一個(gè)氧原子組成,決議了它僅僅一種暫存狀況,帶著的氧原子除氧化用掉外,剩余的又組合為氧氣進(jìn)入安穩(wěn)狀況,所以臭氧沒(méi)有二次污染。
       假如咱們通入的氣體中含有氧氣,那么在反響過(guò)程中就會(huì)發(fā)生少數(shù)的臭氧,正是由于有臭氧的發(fā)生,所以咱們?cè)谶\(yùn)用等離子清洗機(jī)的時(shí)分有時(shí)會(huì)聞到一股臭味,這便是為什么等離子清洗時(shí)機(jī)發(fā)生臭味的原因了。


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誠(chéng)峰智造——專注等離子研發(fā)20年

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