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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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光學(xué)鏡片用等離子清洗設(shè)備處理是啥原理

光學(xué)鏡片用等離子清洗設(shè)備處理是啥原理:

       大多數(shù)隱形眼鏡都是由有機(jī)玻璃制成的,它具有折射率高、硬度合適、親和力好等優(yōu)點,但具有親水性較差的缺點,長期佩戴會引起眼部不適,對O2親水性差,佩戴時容易造成眼炎等問題。
       依托于低溫等離子清洗設(shè)備清洗技術(shù)處理,不光可以去除隱形眼鏡表層的污垢,也可以利用在隱形眼鏡表面形成一層薄膜,能夠提高其親水性、保濕性和透氣性。等離子體含氫氣體用于體內(nèi)清洗,能夠提高眼鏡的潤濕性和生物相容性。
       目前等離子清洗設(shè)備在光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微流體力學(xué)等領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。等離子體清洗技術(shù)的最大特點是可以處理金屬、半導(dǎo)體、氧化物等材料,今日為大家介紹一下,等離子清洗設(shè)備在隱形眼鏡的應(yīng)用。

等離子清洗設(shè)備

       光學(xué)鏡片的鍍膜技術(shù)是整個光學(xué)系統(tǒng)的一個重要組成部分,良好的鍍膜技術(shù)能改善鏡片的折射率、阿貝數(shù)、散射、衍射和化學(xué)性能。光學(xué)薄膜真空鍍膜技術(shù)通常采用物理氣相沉積(PVD)技術(shù),包括熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍等方法。
       光學(xué)鏡片在鍍膜前需要經(jīng)過離心力清洗機(jī)和超聲波清洗機(jī)的清洗,以獲得超潔凈的基體表面,但為了更好的鍍膜效果,還需要采用等離子清洗,既可以去除表面經(jīng)離心力清洗和超聲波清洗后的有機(jī)殘留物,也可以為后道的鍍膜技術(shù)提供積極的幫助。
利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù),在一定真空負(fù)壓下,將氣體轉(zhuǎn)化為具有活性的氣體等離子體,等離子體可以輕柔地沖刷固體樣品表面,從而達(dá)到超級清潔的效果,使其有機(jī)污邊物在極短的時間內(nèi)被外接直空泵徹底抽走,其清洗能力可以達(dá)到分子級。
        在一定時間內(nèi)還能使樣品表面性能產(chǎn)生變化。通過采用氣體作為清洗處理介質(zhì),可以有效避免樣品再次污染,等離子清洗設(shè)備不僅能夠增強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤性,而且還可以對樣品進(jìn)行消毒和殺菌。

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