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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

哪些領(lǐng)域可以應(yīng)用-CRF小型等離子清洗器

       CRF小型等離子清洗器!設(shè)備的特點(diǎn)及各加工行業(yè)的應(yīng)用越來(lái)越廣泛,尤其是科研領(lǐng)域具有獨(dú)特功能:等離子清洗、蝕刻、等離子電鍍、等離子噴涂、等離子灰化和表層改性等在電鏡等方面的特殊應(yīng)用,并論述了等離子清洗蝕刻機(jī)的特殊性及其在現(xiàn)代科學(xué)研究中不可替代性。

       CRF小型等離子清洗器呈現(xiàn)的等離子體是由氣體分子在真空、放電等特殊條件下呈現(xiàn)的特有現(xiàn)象。一般等離子包括電子,離子,自由基和質(zhì)子。正如能量需要將固體變?yōu)闅怏w,而制造離子體也需要能量,離子可以與電磁反應(yīng)傳導(dǎo)。


CRF小型等離子清洗器

      CRF小型等離子清洗器在密封容器內(nèi)設(shè)置兩個(gè)電極以形成電場(chǎng),達(dá)到一定的真空度,并且隨著氣體越來(lái)越稀薄,分子間隔和分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離越來(lái)越遠(yuǎn),在電場(chǎng)的作用下,碰撞形成等離子體,呈現(xiàn)輝光放電。在輝光放電過(guò)程中,氣壓、放電功率、氣體組分、流速、物料類型等因素對(duì)材料的腐蝕(效)果有重要影響。 因?yàn)榈入x子體輝光放電是由真空紫外光,對(duì)蝕刻率有積極影響,氣體中含有中性粒子、離子和電子。中性顆粒與溫度、電子能量對(duì)應(yīng)的溫度較高,稱為非平衡等離子體和冷等離子體,主要表現(xiàn)出電中性(準(zhǔn)中性)氣體所呈現(xiàn)的高自由基和離子活性,其能量足以破壞所有化學(xué)鍵,在物質(zhì)的表層上都會(huì)呈現(xiàn)化學(xué)反應(yīng)。通常等離子體中粒子的能量為數(shù)十個(gè)電子伏特,與聚合物材料的結(jié)合鍵(數(shù)十個(gè)電子伏特)相比,能夠破壞有(機(jī))大分子的化學(xué)鍵,但遠(yuǎn)低于高能放射線鍵,不影響基體的性能。 粘結(jié)劑在電鍍、粘接、焊接操作過(guò)程中,常因殘余物而減弱,這些殘余可通過(guò)等離子體選擇性地去除。與此同時(shí)氧化層對(duì)鍵合質(zhì)量也有危害,需要等離子清洗,提高焊接穩(wěn)定性。

     在等離子蝕刻過(guò)程中,通過(guò)高能氣體,蝕刻物會(huì)變成氣相。被處理過(guò)的氣體和基體材料從真空泵中抽出,并被處理過(guò)的氣體連續(xù)覆蓋。不被蝕刻的部分重新覆蓋材料(如半導(dǎo)體工業(yè)用鉻膜覆蓋材料)


CRF小型等離子清洗器

       CRF小型等離子清洗器也被應(yīng)用在蝕刻塑料表層,使其充滿氧,同時(shí)分析其分布。在塑料印刷和粘接過(guò)程中,蝕刻技術(shù)作為預(yù)處理的重要手段,如等離子處理可大大提高粘接濕面積。使用活性堿金屬可提高粘接能力,但這種方法不容易掌握,而且溶液毒性大。采用等離子體技術(shù),不僅能保護(hù)環(huán)境,而且(效)果更好。等離子體結(jié)構(gòu)可以較好的處理物體表層,同時(shí)在表層形成活性層,進(jìn)行塑料粘結(jié)和印刷。

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